负光刻胶的显影机理及区别

将光刻胶分为两类 ,-负性光刻胶 ,一类是正性光刻胶。 在显影后,正性光刻胶未曝光的部分将被保留下来,负性光刻胶则在显影后保留下来。也就

将光刻胶分为两类 ,-负性光刻胶 ,一类是正性光刻胶。 在显影后,正性光刻胶未曝光的部分将被保留下来,负性光刻胶则在显影后保留下来。也就是说,在曝光结束后,腿影液显影的是正性光刻胶的感光区、负性光刻胶的非感光区,将溶解在显影液中,此步骤完成后,光刻胶涂层上的图象便可显示出来。为提高分辨率,几乎每种光刻胶都配备了专用显影液,以保证显影效果。

1负性光刻胶显影机理

负性光刻胶-般采负性显影液显影,负性显影液一般为KOH ,个别工厂也有使用Na2CO3 ,无论哪种成份的 碱液,都会含有表面活性剂(surfactant)。弱酸性(H+ )区域的光刻胶不曝光区,仅从化学反应层来看,就是未曝光区域 光刻胶(H+)与碱性显影液发生酸碱度(H+)的关系。那么为什么负性显影液中-定要含有表面活性剂呢 ,原来由负性光刻胶分子大且具有疏水性,所以需要通过显影液中的界面活性剂(surfactant)来提高显影液的亲水性,从而使其溶解。

2正性光刻胶的显影机理

在无界面活性剂的情况下,正性光刻胶采用正性显影液显影,常用的显影液为KOHwithbufffer、 TMAH、 NaOH等。

正性光刻胶经曝光制程感光处理后, PAC反应呈酸性(H+) ,并在显影液中和显影液(OH-).上进行酸碱中和反应, 如图2所示。当正性显影液中加入适当的缓冲液,可起到辅助PH平衡的作用，使显影液浓度变化不太快,从而保证显影质量。

负两种显影液的主要差异

正性和负性显影液都是碱性溶剂,主要区别负性显影液中含有表面活性剂(surfactant) ,而正性显影液中没有 这种成分。下面就简单介绍一 下表面活性剂的作用。

任何能溶解于水的物质,其表面能显著降低其表面能量的物质称为表面活性剂,亦称表面活性物质。表面活性剂.是一种即使在很低浓度下也能显著降低界面张力的物质。通过对表面活性剂的深入研究,我们认为,只要表面活性剂浓度较低,就能明显改变表面性质或改变与其相关及衍生性质的物质,一般可归类为表面活性剂。

这些表面活性剂是天然的,但大多是人工合成的。在溶液表面有固定的亲新水亲油基团,可以定向排列。紛子结 构有两个端点: -端是亲水基团,另-端是疏水基团。水基团-般为羧酸、硫酸、磺酸、氨基及它们的盐、羟基 酰胺基醚键等极性亲水基团等极性基团,而疏水基团通常是非极性烃链, 如八个碳原子以上的烃链等。将表面活性剂分为离子型表面活性剂、阳离子表面活性剂和阴离子表面活性剂两大类,还有非离子型表面活性剂、两性表面活性剂、复合表面活性剂、其它表面活性剂等。购买微流控芯片的组件/配件/耗材:接头、夹具、微阀、微泵、微控制器、微电极、芯片基材、光刻胶、PDMS、 以及其他耗材销售请联系电话.电话17312666002（同微信）。返回搜狐，查看更多